光罩
贡献者:angelazhang 浏览:3281次 创建时间:2015-01-20
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1简介
2结构
1简介
光罩(英文:Reticle, Mask):在制作IC的过程中,利用光蚀刻技术,在半导体上形成图型,为将图型复制於晶圆上,必须透过光罩做用的原理。比如冲洗照片时,利用底片将影像复制至相片上。
2结构
实体结构:布满积体电路图像的铬金属薄膜的石英玻璃片上的图像。 倍缩光罩(Reticle):当铬膜玻璃仅能局部覆盖晶圆称为倍缩光罩,通常图型要放大4倍、5倍或10倍。 光罩(Mask):当铬膜玻璃上的图像能覆盖整个晶圆时称之为光罩。
业内又称光掩模版、掩膜版,英文名称 MASK 或 PHOTOMASK),材质:石英玻璃、金属铬和感光胶,该产品是由石英玻璃作为衬底,在其上面镀上一层金属铬和感光胶,成为一种感光材料,把已设计好的电路图形通过电子激光设备曝光在感光胶上,被曝光的区域会被显影出来,在金属铬上形成电路图形,成为类似曝光后的底片的光掩模版,然后应用于对集成电路进行投影定位,通过集成电路光刻机对所投影的电路进行光蚀刻,其生产加工工序为:曝光,显影,去感光胶,最后应用于光蚀刻。
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