固液交界面
贡献者:sylar 浏览:1561次 创建时间:2009-06-03
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显示固液交界面的方法与基本原理
1.晶体与熔体快速分离法
当晶体生长到某一时刻﹐突然将晶体快速提升﹐使与熔体分离﹐这样就可以观察到三度方向上的固液交界面的形状﹐此法的缺点是只能显示局部的固液交界面。
2.突然加入大量反型号杂质法
在拉单晶时﹐在某一瞬间加入大量反型号杂质﹐那么后生长的晶体的导电类型就与之前生长晶体的导电类型不同﹐类似一个PN结﹐这个结的轮廓线就反映了固液交界面的形成。但问题是﹐当时搀杂的元素有可能破坏了当时的固液交界面。
3.硝酸滴加HF酸化学腐蚀法
晶体生长的时﹐因为温度波动﹑热场的不对称性及机械不均匀等
原因可造成局部地方的回熔﹐因为分凝效应﹐会在晶体中存在杂质的条纹﹐因为杂质的不均匀﹐导致电极电位的不同﹐构成了微电池﹐并出现不均匀腐蚀﹐因此可用化学腐蚀法观察。
4.高温退火后再择优腐蚀法
单晶在高温退火处理的时候﹐会产生大量的点缺陷(空穴)﹐空穴能与O﹑C等杂质结合形成新空位﹐即杂质复合体。由于分凝效应﹐空位是呈条纹分布的﹐而在热处理时﹐金属杂质与空位团之间相互吸引﹐所以金属杂质也类似与微缺陷按照条纹分布﹐且能利用择优腐蚀剂显示﹐反应了局部生长时固液交界面的形状。
5.脉冲镀铜技术
将单晶纵向切开﹐将剖面浸入铜盐溶液中。整个装置类似电镀。根据法拉第定律。析出物量与电流密度成正比﹐所以样品上的铜是不均匀的﹐这种不均匀性是杂质的不均匀性﹐因此可以将固液交界面显示出来。
6. HF+CrO3择优腐蚀
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参考资料
http://baike.baidu.com/view/1673942.html?fromTaglist
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