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贡献者：angelazhang 浏览：813次 创建时间：2015-05-25
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FAB32
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1简介
2发展历史
1简介
FAB32是Intel第一座可以量产45nm工艺处理器的晶圆工厂，厂址位于美国亚利桑那州的Chandler。该厂总投资30亿美元，于2005年8月开始兴建，由3000名建筑工人历时两年完成，耗费800多万工时，期间一共使用了1.9万吨钢铁、86000立方码混凝土、568英里线缆、75英里管道，单是为了放置顶盖就动用了世界第三大的起重机。
建成后的Fab 32拥有员工1000多人，涉及各个职位。该工厂管理严格，内部消毒净化技术先进，工作人员必须从头到脚都装甲起来，是世界上最佳的工厂之一。一流设备。
Fab 32占地面积约100万平方英尺(9.3万平方米)，相当于17个美国橄榄球场，其中一级无尘室面积18.4万平方英尺(1.7万平方米)，形象地说就是每立方英尺空间内不小于0.5微米的尘埃不超过一粒，比医院手术室还要干净100倍。
2发展历史
Fab 32是Intel的第六座300mm晶圆厂，也是第二座可以制造45nm处理器的工厂。早在2007年1月份，位于俄勒冈州的D1D工厂就已经开始试产新工艺芯片，如今得以在Fab 32投入大批量生产。
Intel称，导入新工艺还会对环境保护做出重要贡献，45nm技术可将全球温室效应辐射降低15%，而且Fab 32还采纳了水循环利用系统，70%以上的用水都可重复使用。Intel还有意让Fab 32通过美国绿色建筑委员会的LEED体系认证，这也是Intel半导体晶圆厂第一次做出这种努力。
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