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EEPW百科待完善词条

ac-dc转换器 2015-11-18 不爱吃窝瓜
AC/DC转换器就是将交流电变为直流电的设备,其功率流向可以是双向的,功率流由电源流向负载的称为整流,功率流由负载返回电源的称为有源逆变。 AC-Alternating current 是交流的意思 ,DC-Direct current 是直流的意思,AC/DC变换是将交流变换为直流,AC/DC转换器就是将交流电变为直流电的设备,其功率流向可以是双向的,功率流由电源流向负载的称为整流,功率流由负
css选择器 2015-11-18 不爱吃窝瓜
目录 1 简介 2 1.1 类别选择器 3 1.2 标签选择器 4 1.3 ID选择器 5 1.4 后代选择器 6 1.5 子选择器 7 1.6 伪类选择器 8 1.7 通用选择器 9 1.8 群组选择器 10 1.9 相邻同胞选择器 11 1.10 属性选择器 12 1.11 伪元素选择器 13 1.12 结构性伪类选择器 14 1.13 UI元素状态伪类选择器 1
传感器检测系统 2015-11-18 不爱吃窝瓜
目录 1 概述 2 工作原理 概述 传感器检测系统这一概念是传感技术发展到一定阶段的产物。 检测系统是传感器与测量仪表、变换装置等的有机组合。 在工程实际中,需要有传感器与多台测量仪表有机地组合起来,构成一个整体,才能完成信号的检测,这样便形成了检测系统。随着计算机技术及信息处理技术的不断发展,检测系统所涉及的内容也不断得以充实。在现代化的生产过程中,过程参数的检测都是自动进行的,即检测任
GPS系统 2015-11-18 不爱吃窝瓜
目录 1 简介 2 GPS系统 3 车载GPS导航系统 4 定位原理 5 GPS应用 6 NMEA协议 7 应用举例 8 GPS系统的特点 9 GPS系统的构成 ? 空间部分 ? 地面控制系统 ? 用户设备部分 简介 目前世界使用最多的全球卫星导航定位系统是美国的GPS系统,一共由24颗卫星组成。它采用时间测距定位原理,可对地面车辆、海上船只、飞机、导弹、卫星和飞船等各
便携式电子点烟器 2015-11-18 不爱吃窝瓜
便携式电子点烟器,电子打火机 电子点烟器 电子点烟器可以通过外接电源给内置锂离子电池充电。其是常用的USB充电接口。可以直接把它插入电脑USB母座给其充电,也可以插入带USB母座的AC电源给其充电。充电时间为2到3个小时就可以充饱。 电子点烟器 充饱后的电子点烟器就可以用来点烟,点一次烟须花4到5秒时间。因是发热丝发热来点烟的,所以是无明火,不怕风和不怕寒冷天气的。 充饱一次电可以使用2
多媒体系统 2015-11-18 不爱吃窝瓜
目录 1 概述 2 多媒体信息类型 ? 概述 ? 文字 ? 图形 ? 图像 ? 声音 ? 影视 ? 动画 ? 超文本与超媒体 3 多媒体系统的组成 概述 从狭义上分,多媒体系统就是拥有多媒体功能的计算机系统; 从广义上分,多媒体系统就是集电话、电视、媒体、计算机网络等于一体的信息综合化系统。 多媒体系统由两部分组成:1、多媒体硬件系统;2、多媒体软件系统。其中硬件系统
广告发布系统 2015-11-18 不爱吃窝瓜
目录 1 兴起背景 2 行业现状 3 产品现状 4 发展前景 兴起背景 随着网络广告市场的发展,网络媒体策划和产品营销人员需要更加细致的管理、及时进行广告优化,确保网络广告资源被高效使用,同时,网络管理者需要更加灵活的组织和调配网络资源,在确保精确的广告投递的前提下,依托广告管理系统的技术基础,与销售团队进行深层次的整合,形成多样性的销售方案。在市场的驱动下,各类广告管理系统应运而生。
Zytel 2015-11-18 不爱吃窝瓜
目录 1 概述 2 Zytel尼龙树脂 ? Zytel PLUS尼龙树脂 ? ZYTEL LCPA ? ZYTEL PA 概述 用途:体育用品,电子电器应用,商用机器,汽车应用,工程应用。 加工方式:注塑成型。 Zytel尼龙树脂 业界最广泛的产品组合的公司发明了尼龙: Zytel PLUS尼龙树脂 ZYTEL?PLUS - 优秀的性能水平维持更长的时间比传统的尼龙尽管长期
化学研磨 2015-11-18 不爱吃窝瓜
化学研磨(Chemical Polishing):将金属浸泡在由各种成分组成的化学溶液中,靠化学反应自然溶解金属表面(尤其是凹面)的氧化皮等异物,必要时也会靠化学反应在表面上生成一层保护皮膜。 例如:表面需要滚花的铝制品件,加工后首先用滚磨的方法去除尖角毛刺; 然后用化学研磨的方法去除沉积在沟槽中的渣子、沉淀物等。 如果滚磨后在工件表面上不会残留难以清除的异物、去油处理即可,可不进行化学研磨
化学机械研磨 2015-11-18 不爱吃窝瓜
目录 1 介绍 2 研磨制程分类 3 研磨耗材 4 化学机械研磨的特点 介绍 晶圆制造中,随着制程技术的升级、导线与栅极尺寸的缩小,光刻(Lithography)技术对晶圆表面的平坦程度(Non-uniformity)的要求越来越高,IBM公司于1985年发展CMOS产品引入,并在1990年成功应用于64MB的DRAM生产中。1995年以后,CMP技术得到了快速发展,大量应用于半导体产