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High-K 2015-11-17 不爱吃窝瓜
High-K究竟是什么神奇的技术?这要从处理器的制造原料说起。 由于二氧化硅(SiO2)具有易制性 (Manufacturability),且能减少厚度以持续改善晶体管效能,因此过去40余年来,处理器厂商均采用二氧化硅做为制作闸极电介质的材料。 当英特尔导入65纳米制造工艺时,虽已全力将二氧化硅闸极电介质厚度降低至1.2纳米,相当于5层原子,但由于晶体管缩至原子大小的尺寸时,耗电和散热亦会同时
独石电容器 2015-11-16 不爱吃窝瓜
以铌镁酸铅[Pb(Mg1/3Nb2/3)O3]和复合钙钛型化合物为主要原料,制成浆料,经轧膜、挤压或流延法形成生坯陶瓷薄膜,再经烘干、印刷内电极、叠片、切割、涂端头电极、烧结而成。烧成温度880~1100℃。有带引线树脂包封的和不带引线也无包封的块状裸露的两种。广泛用于印刷电路、厚薄膜混合集成电路中作外贴元件。片状独石陶瓷电容器已广泛用于钟表、电子摄像机、医疗仪器、汽车、电子调谐器等。