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开放分类包含“薄膜制备”的词条:
溅射
2009-05-26
sylar
溅射(sputtering)是PVD薄膜制备技术的一种,主要分为四大类:直流溅射、交流溅射、反应溅射和磁控溅射。 原理如下图: 原理:用带电粒子轰击靶材,加速的离子轰击固体表面时,发生表面原子碰撞并发生能量和动量的转移,使靶材原子从表面逸出并淀积在衬底材料上的过程。以荷能粒子(常用气体正离子)轰击某种材料的靶面,而使靶材表面的原子或分子从中逸出的现象。 用途:利用它可使他种基体材料表面获得金
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