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贡献者：sylar 浏览：1337次 创建时间：2009-06-03
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epitaxial gases
气体工业名词，半导体工业中在仔细选择的衬底上采用化学气相淀积(CVD)的方法生长一层或多层材料所用气体称为外延气体。硅外延气体有4种，即硅烷，二氯二氢硅，三氯氢硅和四氯化硅，主要用于外延硅淀积，多晶硅淀积，淀积氧化硅膜，淀积氮化硅膜，太阳能电池和其他光感受器的非晶硅膜淀积。外延生长是一种单晶材料淀积并生长在衬底表面上的过程。此外延层的电阻率往往与衬底不同。[1]
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参考资料
化工词典
http://www.chemyq.com/xz/xz6/57363csfnk.htm
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